TetraMemتعلن عن إنجاز بارز متمثل في تطوير رقاقة SoC للحوسبة التناظرية في الذاكرة بتقنية RRAM متعددة المستويات وبدقة 22 نانومتر

(BUSINESS WIRE)-- أعلنت اليوم شركة .TetraMem Inc، وهي شركة أشباه موصلات مقرها وادي السيليكون وتعمل على تطوير حلول الحوسبة التناظرية في الذاكرة (IMC)، عن النجاح في مرحلة التصميم النهائي والتصنيع والتحقق الأولي من شرائح السيليكون لمنصتها MLX200، وهي عبارة عن نظام على رقاقة (SoC) للحوسبة التناظرية في الذاكرة يعتمد على تقنية RRAM متعددة المستويات وبدقة 22 نانومتر.

يمثل هذا الإنجاز خطوةً مهمةً نحو التسويق التجاري لبنيات الحوسبة التناظرية القائمة على تقنيات الذاكرة غير المتطايرة الناشئة، مما يعالج التحديات المتزايدة المتعلقة بنقل البيانات، واستهلاك الطاقة، والقيود الحرارية في أنظمة الذكاء الاصطناعي الحديثة.

مع استمرار توسع أحجام عمل الذكاء الاصطناعي، يزداد تقييد أداء النظام بسبب تكلفة نقل البيانات بين الذاكرة ووحدات الحوسبة. تقدم الحوسبة التناظرية في الذاكرة نهجًا مختلفًا جذريًا من خلال إجراء العمليات الحسابية مباشرةً داخل مصفوفات الذاكرة، مما يقلل بشكل كبير من نقل البيانات ويعزز الكفاءة على مستوى النظام. تدمج منصة MLX200 من TetraMem مصفوفات RRAM متعددة المستويات مع محركات حوسبة ذات إشارات مختلطة لتمكين عمليات المصفوفات والمتجهات عالية الإنتاجية داخل الذاكرة، مع الحفاظ على التوافق مع عمليات CMOS المتقدمة.

توفر تقنية RRAM متعددة المستويات، والتي جرى إثباتها في عملية تصنيع TSMC بدقة 22 نانومتر، سماتٍ أساسيةً مطلوبةً للنشر العملي، بما في ذلك التوافق مع CMOS بأقل قدر من التعقيد الإضافي في العمليات، والتشغيل بجهد تيار منخفض، وخصائص قوية للاحتفاظ بالبيانات والتحمل، وقدرة عالية متعددة المستويات تدعم تحسين كثافة الذاكرة والحوسبة. تشير النتائج الأولية لشرائح السيليكون إلى وظائف ثابتة عبر المصفوفات، مما يدعم جدوى هذا النهج لتطبيقات الذاكرة غير المتطايرة المدمجة والحوسبة في الذاكرة على حدٍّ سواءٍ.

يبني هذا الإنجاز على عمل TetraMem السابق على منصة MX100، المصنعة بعملية TSMC 65nm CMOS، حيث أثبتت الشركة وجود أجهزة RRAM متعددة المستويات مع آلاف مستويات الموصلية ("Thousands of conductance levels in memristors integrated on CMOS"‏، Nature، مارس 2023)، بالإضافة إلى قدرات حوسبة تناظرية عالية الدقة ("Programming memristor arrays with arbitrarily high precision for analog computing"‏، Science، فبراير 2024). أرست هذه النتائج السابقة أساسًا علميًا وهندسيًا قويًا لترقية هذه التقنية إلى عقد تصنيع أكثر تقدمًا.

منذ عام 2019، تعمل TetraMem بشكل وثيق مع مسبك أشباه الموصلات الرائد عالميًا لتطوير تقنية RRAM من أبحاث المراحل الأولية إلى شرائح سيليكون قابلة للتصنيع. يعكس التقدم المحرز بدقة 22 نانومتر التطوير المستمر في تكامل العمليات، وتناسق الأجهزة، والتصميم المشترك على مستوى النظام.

صُممت منصتا MLX200 وMLX201 لدعم تطبيقات الذكاء الاصطناعي في الأجهزة الطرفية (edge AI) الحساسة لاستهلاك الطاقة وزمن الاستجابة، بما في ذلك معالجة الصوت والأصوات، والأجهزة القابلة للارتداء، وأنظمة إنترنت الأشياء، والاستشعار الدائم العمل. من المتوقع أن يبدأ أخذ العينات التقييمية في النصف الثاني من عام 2026، وتتوفر برمجيات الملكية الفكرية (IP) لذاكرة RRAM متعددة المستويات للتقييم والترخيص المحتمل.

علق الدكتور Glenn Ge، المؤسس المشارك والرئيس التنفيذي لشركة TetraMem، قائلًا: "يعكس هذا الإنجاز البارز سنواتٍ من التعاون الوثيق مع شريكنا في المسبك TSMC، ويثبت جدوى نقل تقنية RRAM متعددة المستويات والحوسبة التناظرية في الذاكرة من طفرة في بنيات الحوسبة إلى شرائح سيليكون تجارية في عقد تصنيع متقدمة. نعتقد أن هذا النهج يوفر مسارًا عمليًا لتحسين كفاءة الطاقة وقابلية التوسع لأنظمة الذكاء الاصطناعي من الجيل التالي".

يسلط التحقيق الناجح لمنصة MLX200 الضوء على جدوى الحوسبة التناظرية القائمة على تقنية RRAM متعددة المستويات في عمليات أشباه الموصلات المتقدمة. ستواصل TetraMem تطوير هذه التقنية لدعم أحجام عمل الذكاء الاصطناعي الناشئة مع تحسين كفاءة الطاقة وقابلية النظام للتطوير.

 حول TetraMem

TetraMem هي شركة أشباه موصلات مقرها وادي السيليكون رائدة في الحوسبة التناظرية في الذاكرة باستخدام تقنية RRAM متعددة المستويات. تدمج بنيتها الذاكرة والحوسبة لتقليل حركة البيانات بشكل كبير وتحسين كفاءة الطاقة لأحجام عمل الذكاء الاصطناعي. مع وجود أساس قوي في التصميم المشترك للأجهزة والدارات والأنظمة، تطور TetraMem حلولًا قابلة للتوسع للذكاء الاصطناعي في الأجهزة الطرفية والحوسبة المستقبلية عالية الأداء، وتعمل وثيقًا مع المسابك الرائدة وشركاء المنظومة البيئية لنقل تقنيات الطفرات العلمية الأساسية إلى مرحلة الإنتاج التجاري بأحجام مختلفة.

صور / وسائط متعددة متوفرة على : https://www.businesswire.com/news/home/20260516556464/en

إن نص اللغة الأصلية لهذا البيان هو النسخة الرسمية المعتمدة. أما الترجمة فقد قدمت للمساعدة فقط، ويجب الرجوع لنص اللغة الأصلية الذي يمثل النسخة الوحيدة ذات التأثير القانوني.